PLI-MPVD系列磁控/多弧/离子源复合PVD镀膜设备
?       磁控溅射/阴极电弧/离子源多功能复合PVD设备
?       平面矩形磁控溅射阴极,旋转阴极可选
?       圆弧与平面矩形电弧阴极,可选
?       电磁控弧技术,弧斑强分散
?       有效减少液滴,提高涂层质量
?       腔体内部尺寸:800-1800mm(直径)×800-1800mm(高)
可镀涂层材料:
?       金属:Ti, Cr, Al, Ag,Au,Ni,Cu...
?       氮化物:TiN, CrN, AlN,SiN,TiAlN, TiAlSiN…
?       碳化物:TiC,SiC,DLC…
?       氧化物:Al2O3,SiO2,TiO2,ZrO2…
应用领域:
?       消费电子(电磁屏蔽、3C数码产品部件等)
?       汽车工业(活塞、耐磨装饰镀膜)
?       工具模具(钻头、铣刀、拉活塞环、轮毂、发动机摩擦部件)
?       钟表行业(表壳、表带、表盘等刀、精密模具等硬质涂层)
?       五金卫浴(卫生洁具、门把手、门锁、水龙头等装饰镀)
?       珠宝工艺品行业(珠宝首饰、工艺品等表面装饰镀膜)
 
 
 
            
